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新 毅 東 （ 北 京 ） 科 技 有 限 公 司 首 頁 產(chǎn) 品 中 心 光 刻 設(shè) 備 涂 膠 顯 影 設(shè) 備 高 端 客 制 化 濕 法 設(shè) 備 備 品 備 件 技 術(shù) 服 務(wù) 翻 新 服 務(wù) 改 造 服 務(wù) 光 刻 鏡 頭 服 務(wù) 移 機(jī) 服 務(wù) 資 料 下 載 新 聞 動(dòng) 態(tài) 企 業(yè) 風(fēng) 采 行 業(yè) 新 聞 學(xué) 習(xí) 專 欄 關(guān) 于 新 毅 東 公 司 簡(jiǎn) 介 企 業(yè) 文 化 發(fā) 展 歷 程 招 賢 納 士 社 會(huì) 招 聘 校 園 招 聘 聯(lián) 系 我 們 聯(lián) 系 方 式 在 線 反 饋 產(chǎn) 品 中 心 光 刻 設(shè) 備 涂 膠 顯 影 設(shè) 備 高 端 客 制 化 濕 法 設(shè) 備 備 品 備 件 技 術(shù) 服 務(wù) 翻 新 服 務(wù) 改 造 服 務(wù) 光 刻 鏡 頭 服 務(wù) 移 機(jī) 服 務(wù) 資 料 下 載 新 聞 動(dòng) 態(tài) 企 業(yè) 風(fēng) 采 行 業(yè) 新 聞 學(xué) 習(xí) 專 欄 關(guān) 于 新 毅 東 公 司 簡(jiǎn) 介 企 業(yè) 文 化 發(fā) 展 歷 程 招 賢 納 士 校 園 招 聘 社 會(huì) 招 聘 聯(lián) 系 我 們 聯(lián) 系 方 式 在 線 反 饋 語 言 E N C N 專 業(yè) 半 導(dǎo) 體 裝 備 整 體 方 案 解 決 商 P R O F E S S I O N A L S E M I C O N D U C T O R E Q U I P M E N T O V E R A L L S O L U T I O N P R O V I D E R 了 解 更 多 專 業(yè) 半 導(dǎo) 體 裝 備 整 體 方 案 解 決 商 P R O F E S S I O N A L S E M I C O N D U C T O R E Q U I P M E N T O V E R A L L S O L U T I O N P R O V I D E R 了 解 更 多 專 業(yè) 半 導(dǎo) 體 裝 備 整 體 方 案 解 決 商 P R O F E S S I O N A L S E M I C O N D U C T O R E Q U I P M E N T O V E R A L L S O L U T I O N P R O V I D E R 了 解 更 多 產(chǎn) 品 中 心 P r o d u c t C e n t e r 光 刻 設(shè) 備 涂 膠 顯 影 設(shè) 備 高 端 客 制 化 濕 法 設(shè) 備 備 品 備 件 N i k o n N S R G 線 光 刻 機(jī) N i k o n N S R G 線 步 進(jìn) 式 光 刻 機(jī) 光 源 波 長(zhǎng) 4 3 6 n m 分 辨 率 優(yōu) 于 0 . 6 5 μ m 主 要 用 于 2 寸 、 4 寸 、 6 寸 生 產(chǎn) 線 廣 泛 應(yīng) 用 于 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 、 L E D 等 領(lǐng) 域 N i k o n N S R 1 7 5 5 / 1 5 0 5 i 7 A / B N i k o n N S R 1 7 5 5 / 1 5 0 5 i 7 A / B 步 進(jìn) 式 光 刻 機(jī) 光 源 波 長(zhǎng) 3 6 5 n m 分 辨 率 優(yōu) 于 0 . 6 μ m 主 要 用 于 2 寸 、 4 寸 、 6 寸 生 產(chǎn) 線 廣 泛 應(yīng) 用 于 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 、 L E D 等 領(lǐng) 域 N i k o n N S R 2 0 0 5 i 8 A N i k o n N S R 2 0 0 5 i 8 A 步 進(jìn) 式 光 刻 機(jī) 光 源 波 長(zhǎng) 3 6 5 n m 分 辨 率 優(yōu) 于 0 . 5 μ m 主 要 用 于 2 寸 、 4 寸 、 6 寸 、 8 寸 生 產(chǎn) 線 廣 泛 應(yīng) 用 于 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 、 L E D 等 領(lǐng) 域 N i k o n N S R 2 0 0 5 i 9 C N i k o n N S R 2 0 0 5 i 9 C 步 進(jìn) 式 光 刻 機(jī) 光 源 波 長(zhǎng) 3 6 5 n m 分 辨 率 優(yōu) 于 0 . 4 5 μ m 用 于 2 寸 、 4 寸 、 6 寸 、 8 寸 生 產(chǎn) 線 廣 泛 應(yīng) 用 于 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 、 L E D 等 領(lǐng) 域 N i k o n N S R 2 0 0 5 i 1 0 C N i k o n N S R 2 0 0 5 i 1 0 C 步 進(jìn) 式 光 刻 機(jī) 光 源 波 長(zhǎng) 3 6 5 n m 分 辨 率 優(yōu) 于 0 . 4 5 μ m 主 要 用 于 2 寸 、 4 寸 、 6 寸 及 8 寸 生 產(chǎn) 線 廣 泛 應(yīng) 用 于 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 、 L E D 等 領(lǐng) 域 N i k o n N S R 2 2 0 5 i 1 1 D N i k o n N S R 2 2 0 5 i 1 1 D 步 進(jìn) 式 光 刻 機(jī) 光 源 波 長(zhǎng) 3 6 5 n m 分 辨 率 優(yōu) 于 0 . 4 μ m 主 要 用 于 2 寸 、 4 寸 、 6 寸 及 8 寸 生 產(chǎn) 線 廣 泛 應(yīng) 用 于 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 、 L E D 等 領(lǐng) 域 N i k o n N S R 2 2 0 5 i 1 2 D N i k o n N S R 2 2 0 5 i 1 2 D 步 進(jìn) 式 光 刻 機(jī) 光 源 波 長(zhǎng) 3 6 5 n m 分 辨 率 優(yōu) 于 0 . 4 μ m 主 要 用 于 2 寸 、 4 寸 、 6 寸 及 8 寸 生 產(chǎn) 線 廣 泛 應(yīng) 用 于 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 、 L E D 等 領(lǐng) 域 N i k o n N S R 2 2 0 5 i 1 4 E N i k o n N S R 2 2 0 5 i 1 4 E 步 進(jìn) 式 光 刻 機(jī) 光 源 波 長(zhǎng) 3 6 5 n m 分 辨 率 優(yōu) 于 0 . 3 5 μ m 主 要 用 于 2 寸 、 4 寸 、 6 寸 及 8 寸 生 產(chǎn) 線 廣 泛 應(yīng) 用 于 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 、 L E D 等 領(lǐng) 域 N i k o n S F 1 2 0 / 1 3 0 N i k o n S F 1 2 0 / 1 3 0 步 進(jìn) 式 光 刻 機(jī) 光 源 波 長(zhǎng) 3 6 5 n m 分 辨 率 優(yōu) 于 0 . 2 8 μ m 主 要 用 于 6 寸 、 8 寸 及 1 2 寸 生 產(chǎn) 線 廣 泛 應(yīng) 用 于 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 、 L E D 等 領(lǐng) 域 N i k o n E X 1 2 B N i k o n E X 1 2 B 步 進(jìn) 式 光 刻 機(jī) 光 源 波 長(zhǎng) 2 4 8 n m 分 辨 率 優(yōu) 于 0 . 3 μ m 主 要 用 于 2 寸 、 4 寸 、 6 寸 及 8 寸 生 產(chǎn) 線 廣 泛 應(yīng) 用 于 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 、 L E D 等 領(lǐng) 域 N i k o n E X 1 4 C N i k o n E X 1 4 C 步 進(jìn) 式 光 刻 機(jī) 光 源 波 長(zhǎng) 2 4 8 n m 分 辨 率 優(yōu) 于 0 . 2 5 μ m 主 要 用 于 2 寸 、 4 寸 、 6 寸 及 8 寸 生 產(chǎn) 線 廣 泛 應(yīng) 用 于 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 、 L E D 等 領(lǐng) 域 N i k o n S 2 0 3 B N i k o n S 2 0 3 B 掃 描 式 光 刻 機(jī) 光 源 波 長(zhǎng) 2 4 8 n m 分 辨 率 優(yōu) 于 0 . 2 μ m 主 要 用 于 4 寸 、 6 寸 及 8 寸 生 產(chǎn) 線 廣 泛 應(yīng) 用 于 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 、 L E D 等 領(lǐng) 域 N i k o n S 2 0 4 B N i k o n S 2 0 4 B 掃 描 式 光 刻 機(jī) 光 源 波 長(zhǎng) 2 4 8 n m 分 辨 率 優(yōu) 于 0 . 1 8 μ m 主 要 用 于 4 寸 、 6 寸 及 8 寸 生 產(chǎn) 線 廣 泛 應(yīng) 用 于 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 、 L E D 等 領(lǐng) 域 N i k o n S 2 0 5 C N i k o n S 2 0 5 C 掃 描 式 光 刻 機(jī) 光 源 波 長(zhǎng) 2 4 8 n m 分 辨 率 優(yōu) 于 0 . 1 5 μ m 主 要 用 于 8 寸 及 1 2 寸 生 產(chǎn) 線 廣 泛 應(yīng) 用 于 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 、 L E D 等 領(lǐng) 域 N i k o n S 2 0 6 D N i k o n S 2 0 6 D 掃 描 式 光 刻 機(jī) 光 源 波 長(zhǎng) 2 4 8 n m 分 辨 率 優(yōu) 于 0 . 1 2 μ m 主 要 用 于 8 寸 及 1 2 寸 生 產(chǎn) 線 廣 泛 應(yīng) 用 于 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 、 L E D 等 領(lǐng) 域 N i k o n S 2 0 7 D N i k o n S 2 0 7 D 掃 描 式 光 刻 機(jī) 光 源 波 長(zhǎng) 2 4 8 n m 分 辨 率 優(yōu) 于 0 . 1 1 μ m 主 要 用 于 8 寸 及 1 2 寸 生 產(chǎn) 線 廣 泛 應(yīng) 用 于 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 、 L E D 等 領(lǐng) 域 N i k o n S 2 0 8 D N i k o n S 2 0 8 D 掃 描 式 光 刻 機(jī) 光 源 波 長(zhǎng) 2 4 8 n m 分 辨 率 優(yōu) 于 0 . 1 1 μ m 主 要 用 于 8 寸 及 1 2 寸 生 產(chǎn) 線 廣 泛 應(yīng) 用 于 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 、 L E D 等 領(lǐng) 域 N i k o n S 3 0 8 F N i k o n S 3 0 8 F 掃 描 式 光 刻 機(jī) 光 源 波 長(zhǎng) 1 9 3 n m 分 辨 率 優(yōu) 于 0 . 0 7 μ m 主 要 用 于 4 寸 、 6 寸 、 8 寸 及 1 2 寸 生 產(chǎn) 線 廣 泛 應(yīng) 用 于 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 、 L E D 等 領(lǐng) 域 C a n o n F P A 3 0 0 0 E X 4 C a n o n F P A 3 0 0 0 E X 4 步 進(jìn) 式 光 刻 機(jī) 光 源 波 長(zhǎng) 2 4 8 n m 分 辨 率 優(yōu) 于 0 . 2 5 μ m 主 要 用 于 主 要 用 于 4 寸 、 6 寸 、 8 寸 生 產(chǎn) 線 廣 泛 應(yīng) 用 于 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 、 L E D 等 領(lǐng) 域 C a n o n F P A 5 0 0 0 E S 3 C a n o n F P A 5 0 0 0 E S 3 掃 描 式 光 刻 機(jī) 光 源 波 長(zhǎng) 2 4 8 n m 分 辨 率 優(yōu) 于 0 . 1 8 μ m 主 要 用 于 6 寸 、 8 寸 及 1 2 寸 生 產(chǎn) 線 廣 泛 應(yīng) 用 于 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 、 L E D 等 領(lǐng) 域 C a n o n F P A 5 0 0 0 E S 4 C a n o n F P A 5 0 0 0 E S 4 掃 描 式 光 刻 機(jī) 光 源 波 長(zhǎng) 2 4 8 n m 分 辨 率 優(yōu) 于 0 . 1 3 μ m 用 于 6 寸 、 8 寸 及 1 2 寸 生 產(chǎn) 線 廣 泛 應(yīng) 用 于 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 、 L E D 等 領(lǐng) 域 B N E T C 2 0 0 0 公 司 自 主 研 發(fā) 涂 膠 顯 影 設(shè) 備 T C 2 0 0 0 ， 適 用 于 多 種 材 料 涂 覆 顯 影 工 藝 的 高 端 機(jī) 臺(tái) ， 支 持 與 光 刻 機(jī) 聯(lián) 機(jī) 作 業(yè) 該 設(shè) 備 占 地 面 積 小 、 可 靠 性 高 、 易 于 維 護(hù) ， 滿 足 各 種 功 能 芯 片 制 程 需 求 可 廣 泛 用 于 8 寸 以 下 半 導(dǎo) 體 、 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 及 L E D 等 領(lǐng) 域 B N E S W S 2 0 0 0 公 司 自 主 研 發(fā) 單 芯 片 設(shè) 備 S W S 2 0 0 0 可 用 于 2 / 4 / 6 / 8 i n c h （ 厚 度 3 0 0 ~ 1 5 0 0 μ m ， 翹 曲 度 采 用 2 / 4 共 享 ， 4 / 6 共 享 ， 6 / 8 共 享 c h u c k ， 可 更 換 槽 式 清 洗 設(shè) 備 X W 3 0 0 0 系 列 公 司 自 主 研 發(fā) 、 設(shè) 計(jì) 、 制 造 槽 式 清 洗 設(shè) 備 X W 3 0 0 0 系 列 可 用 于 R C A 清 洗 ， 濕 法 去 膠 ， 介 質(zhì) 層 濕 法 刻 蝕 ， 金 屬 層 濕 法 刻 蝕 ， 爐 管 前 清 洗 以 及 其 它 特 殊 工 藝 清 洗 需 求 設(shè) 備 采 用 模 塊 化 設(shè) 計(jì) ， 可 依 照 客 戶 不 同 化 學(xué) 藥 液 及 工 藝 需 求 定 制 化 設(shè) 計(jì) 單 片 蝕 刻 清 洗 設(shè) 備 X S 5 0 0 0 系 列 公 司 自 主 研 發(fā) 、 設(shè) 計(jì) 、 制 造 單 片 式 清 洗 設(shè) 備 X S 5 0 0 0 系 列 消 耗 品 N i k o n 、 C a n o n 、 T E L 設(shè) 備 各 類 備 品 備 件 供 應(yīng) 工 廠 設(shè) 有 3 0 0 ㎡ 的 備 品 備 件 倉 庫 ， 保 障 備 品 備 件 的 及 時(shí) 供 應(yīng) 國(guó) 產(chǎn) 替 代 及 加 工 件 類 各 種 A R M 、 c h u c k 、 p r e 2 等 加 工 件 二 手 備 件 類 控 制 基 板 、 馬 達(dá) 、 控 制 器 、 電 源 等 新 品 備 件 類 鏡 頭 、 馬 達(dá) 、 硬 盤 、 主 機(jī) 等 技 術(shù) 服 務(wù) T e c h n o l o g y S e r v i c e s 0 1 翻 新 服 務(wù) 翻 新 服 務(wù) B N E 提 供 光 刻 機(jī) 專 業(yè) 翻 新 服 務(wù) ， 經(jīng) 過 嚴(yán) 格 檢 測(cè) 、 精 密 維 修 及 性 能 升 級(jí) ， 確 保 翻 新 設(shè) 備 達(dá) 到 卓 越 作 業(yè) 水 平 ， 以 經(jīng) 濟(jì) 高 效 的 方 式 為 半 導(dǎo) 體 制 造 商 賦 能 。 . 0 2 改 造 服 務(wù) 改 造 服 務(wù) 根 據(jù) 產(chǎn) 品 工 藝 和 襯 底 材 質(zhì) 需 求 ， 精 準(zhǔn) 改 造 W L 、 R L 單 元 及 O F 尋 邊 、 S t a g e 等 關(guān) 鍵 部 分 ， 滿 足 生 產(chǎn) 所 需 。 . 0 3 光 刻 鏡 頭 服 務(wù) 光 刻 鏡 頭 服 務(wù) 專 業(yè) 維 護(hù) 光 刻 設(shè) 備 照 明 系 與 成 像 系 鏡 頭 ， 服 務(wù) 內(nèi) 容 涵 蓋 清 潔 、 調(diào) 整 、 鏡 片 更 換 及 拆 裝 ， 確 保 鏡 頭 性 能 穩(wěn) 定 、 成 像 清 晰 ， 保 證 生 產(chǎn) 精 度 。 . 0 4 移 機(jī) 服 務(wù) 移 機(jī) 服 務(wù) 移 機(jī) 團(tuán) 隊(duì) 經(jīng) 驗(yàn) 豐 富 ， 工 具 專 業(yè) ， 流 程 完 善 ， 確 保 設(shè) 備 安 全 移 動(dòng) 。 . 關(guān) 于 新 毅 東 A b o u t U s 新 毅 東 （ 北 京 ） 科 技 有 限 公 司 （ 以 下 簡(jiǎn) 稱 “ B N E ” ） 成 立 于 2 0 1 4 年 3 月 ， 是 一 家 從 事 半 導(dǎo) 體 生 產(chǎn) 線 設(shè) 備 業(yè) 務(wù) 的 高 新 技 術(shù) 企 業(yè) 。 B N E 核 心 業(yè) 務(wù) 圍 繞 黃 光 設(shè) 備 的 技 術(shù) 服 務(wù) 與 自 主 研 發(fā) ， 同 時(shí) 積 極 引 入 海 外 先 進(jìn) 產(chǎn) 品 技 術(shù) ， 并 致 力 于 關(guān) 鍵 國(guó) 產(chǎn) 化 替 代 ， 為 集 成 電 路 、 化 合 物 半 導(dǎo) 體 、 M E M S 以 及 L E D 等 領(lǐng) 域 的 客 戶 提 供 設(shè) 備 制 程 整 合 與 個(gè) 性 化 解 決 方 案 。 B N E 與 中 芯 國(guó) 際 等 行 業(yè) 領(lǐng) 頭 羊 建 立 穩(wěn) 固 合 作 關(guān) 系 ， 積 累 了 豐 富 的 技 術(shù) 經(jīng) 驗(yàn) ， 擁 有 一 支 高 素 質(zhì) 技 術(shù) 團(tuán) 隊(duì) 。 為 強(qiáng) 化 服 務(wù) 能 力 與 技 術(shù) 創(chuàng) 新 ， B N E 在 北 京 、 上 . . . 了 解 更 多 1 0 + 專 注 領(lǐng) 域 1 0 余 年 2 0 0 + 服 務(wù) 客 戶 公 司 3 0 0 + 員 工 人 數(shù) 1 4 0 0 0 + 廠 房 面 積 新 聞 動(dòng) 態(tài) N e w C e n t e r 了 解 更 多 2 0 2 4 0 1 1 9 重 磅 來 襲 ， 園 區(qū) 首 家 半 導(dǎo) 體 設(shè) 備 項(xiàng) 目 落 地 2 0 2 4 0 1 1 9 不 讓 A S M L 獨(dú) 美 日 本 尼 康 研 發(fā) 3 D 光 刻 機(jī) : 未 來 銷 量 翻 倍 2 0 2 4 0 1 1 9 中 國(guó) 第 一 張 光 領(lǐng) 域 I V D R C E 證 書 頒 發(fā) — — 新 毅 東 “ 先 行 者 ” 之 路 又 一 里 程 碑 2 0 2 4 0 1 1 9 ● ? ? 全 球 光 刻 機(jī) 市 場(chǎng) 維 持 高 增 長(zhǎng) 產(chǎn) 品 中 心 光 刻 設(shè) 備 涂 膠 顯 影 設(shè) 備 高 端 客 制 化 濕 法 設(shè) 備 備 品 備 件 技 術(shù) 服 務(wù) 翻 新 服 務(wù) 改 造 服 務(wù) 光 刻 鏡 頭 服 務(wù) 移 機(jī) 服 務(wù) 新 聞 動(dòng) 態(tài) 企 業(yè) 風(fēng) 采 行 業(yè) 新 聞 學(xué) 習(xí) 專 欄 關(guān) 于 新 毅 東 公 司 簡(jiǎn) 介 企 業(yè) 文 化 發(fā) 展 歷 程 招 賢 納 士 社 會(huì) 招 聘 校 園 招 聘 聯(lián) 系 我 們 聯(lián) 系 方 式 在 線 反 饋 0 2 1 5 0 8 8 0 3 2 8 （ 9 : 0 0 1 8 : 0 0 周 一 到 周 五 ） 地 址 ： 北 京 經(jīng) 濟(jì) 開 發(fā) 區(qū) 經(jīng) 海 三 路 1 1 8 號(hào) 院 1 號(hào) 樓 一 層 東 側(cè) 關(guān) 注 我 們 C o p y r i g h t ? 1 9 9 5 2 0 2 3 新 毅 東 ( 北 京 ) 科 技 有 限 公 司 滬 I C P 備 1 4 0 7 9 7 9 4 號(hào) 技 術(shù) 支 持 ： 深 圳 網(wǎng) 站 建 設(shè)

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